バッチ式超高エネルギーイオン注入装置UHE

摘要

本裝置は，300/200mmゥヱハ用高エネルギーイオン注入裝置（バッチ式）HE3を強化·発展させたものである。ェンべディッドタィプ（深部埋込みタィプ)のデバイスでのトリプルゥエル注入や，ィメージセンサの分離層注入の量産に必須な裝置となっている。