イオンビーム照射と化学エッチングを併用した微細構造形成（第1報）－高エネルギイオン照射部のエッチング特性

摘要

本報では，多価重イオンビーム発生装置を用いて高エネルギイオンビーム照射を行い，そのエッチング特性について検討した．その結果，照射部には深さ数百nm 単位の凹状の微細構造が形成され，イオン照射時の加速電圧によってその深さを制御できることがわかった．また照射条件によって照射部最表面のエッチング特性が大きく変化することがわかった．今後は，加工部の分析によりメカニズムの詳細解明について検討する．