机译:用于低温工作的超高性能红外CMOS成像器设计的MOSFET建模:0.18 umn模拟/数字CMOS工艺案例
CEA-Leti, M1NATEC Campus, 38054 Grenoble Cedex 9, France;
CEA-Leti, M1NATEC Campus, 38054 Grenoble Cedex 9, France;
CEA-Leti, M1NATEC Campus, 38054 Grenoble Cedex 9, France;
IMEP-LAHC. M1NATEC Campus, 38016 Grenoble Cedex 1, France;
mosfet; cryogenic temperature; cmos infrared image sensors; low frequency noise; transistor matching; analog design;
机译:采用0.18微米CMOS技术的MOS晶体管的EKV3紧凑模型,用于低温混合数字电路设计
机译:0.18μmCMOS工艺中温度传感器的低功耗闪光模数转换器芯片的设计
机译:0.18- / spl mu / m CMOS,用于混合数字和模拟应用,具有零伏V / sub /外延沟道MOSFET
机译:MOSFET模型,用于在低温下工作的红外CMOS图像传感器的仿真,设计和优化
机译:采用0.18微米硅锗化物BiCMOS工艺实现的高速折叠和插值模数转换器的设计
机译:0.18 µm CMOS工艺中的高速,低偏移动态锁存比较器的设计
机译:采用0.18 µm CMOS工艺的用于温度传感器的低功耗闪存模数转换器芯片的设计