机译:使用发射极边缘稀化增强InP / InGaAs双异质结双极晶体管的电流增益
Department of Materials Science and Engineering, National Dong Hwa University, 1, Sec. 2, Da Hsueh Road, Shou-Feng, Hualien 974, Taiwan, Republic of China;
机译:具有高速,增益和电流驱动能力的InP / InGaAs双异质结双极晶体管
机译:金属有机气相外延生长的高电流增益InGaAs / InP双异质结双极晶体管
机译:具有钝化壁架的0.25μm发射极InP / InAlGaAs / GaAsSb双异质结双极晶体管的电流增益超过100
机译:钝化过程中防止InP / InGaAs / InP双异质结双极晶体管的电流增益降低
机译:基于N沟道InGaAsP-InP的倒置通道技术器件(ICT)的设计,制造和表征,用于光电集成电路(OEIC):双异质结光电开关(DOES),异质结场效应晶体管(HFET),双极倒置沟道场-效应晶体管(BICFET)和双极型反向沟道光电晶体管(BICPT)。
机译:基于具有异质结结构的氧化锌薄膜晶体管的高度透明且表面等离子体增强的可见光探测器
机译:INP / INGAASSB / INGAAS双异质结双极晶体管中发射极尺寸效应的研究
机译:假晶基极 - 发射极间隔层对铍掺杂InGaas / Inalas异质结双极晶体管电流诱导退化的影响