机译:沟道厚度对室温制备的ZnO薄膜晶体管结构和电特性的影响
Information and Electronic Materials Research Laboratory, Department of Materials Science and Engineering, Yonsei University, 134 Shinchon-Dong, Seodaemun-Gu, Seoul 120-749, Korea;
机译:沟道层厚度对顶栅交错微晶硅薄膜晶体管电学特性的影响
机译:利用紫外线/臭氧处理的TiO_2沟道层制造的薄膜晶体管的电学特性
机译:热退火对ZnO薄膜晶体管特性的影响及准分子激光退火在塑料基ZnO薄膜晶体管中的应用
机译:高κHfON / SiO
机译:原位热退火工艺对脉冲激光沉积制造CDS Cdte薄膜太阳能电池结构,光学和电性能的影响
机译:溶液法制备双层ZnO / In2O3薄膜晶体管的电学特性研究
机译:通过解决方案加工制造的双层ZnO / In2O3薄膜晶体管电气特性研究