机译:示范一种新型隧道FET,其沟道被漏极夹在中间
Indian Inst Technol Roorkee Dept Elect & Commun Engn Roorkee 247667 Uttar Pradesh India;
Indian Inst Technol Roorkee Dept Elect & Commun Engn Roorkee 247667 Uttar Pradesh India|Natl Inst Technol Uttarakhand Dept Elect Engn Srinagar 246174 Uttarakhand India;
tunnel field effect transistor; band to band tunneling; semiconductor devices; ambipolar current; drain doping;
机译:用排水沟夹在一起的新型隧道FET的演示
机译:具有高隧穿电流和高开/关比的p沟道锗外延隧道层(ETL)隧道FET的实验演示
机译:源漏直接隧穿控制的Ⅲ-Ⅴ沟道MOSFET的沟道长度定标极限
机译:垂直隧道倍增技术在SOI隧道FET中首次增强漏极电流的演示
机译:铟镓砷金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)具有5 nm沟道,并通过MBE再生长实现自对准源/漏。
机译:漏极升高的鳍式隧道场效应晶体管的演示
机译:使用栅极 - 漏极潜水潜水局部减少III-V垂直纳米线隧道FET中的Ampolar断开状态漏电流
机译:具有镍合金源/漏极的基于锑化物的异质结构p沟道mOsFET。