マスク描画装置 先端投資で市場規模は過去最高 マルチビームの開発競争始まる

摘要

2013年の半導体向けマスク描画装置市場は、前年に引き続きプラス成長となり、過去最高を更新した。微細化投資が継続的に進められたことがさらなる成長をドライブした。メーカーシェアを見ると、先端のEB描画装置では大手デバイスメーカーやファンドリーを主要顧客とするニューフレアがほぼ市場を独占している。技術開発では、マルチビーム機が今後のカギを握る。開発·導入が遅れているEUVでは1枚のマスクに描画される図形数が増す。このためマルチビームで生産性をアップする必要がめる。しかし、数万本のビームの高精度での制御や膨大なデータの伝送技術など課題も多く、今後の開発競争が注目される。