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荏原製作所新型真空ポンプ中負荷用途向け

机译:EBARA新型真空泵,用于中等负荷应用

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摘要

㈱荏原製作所(神奈川県藤沢市本藤沢4-2-1、0466-83-8111)は、半導体製造装置用の新型水冷式ドライ真空ポンプ「EV-L型」を2017年1月から販売する。新製品はメタルエッチングやポリシリコンエッチングなど中負荷用途向けに最適。同製品の販売開始に伴い、ロードロック室や検査装置、スパッタ装置など軽負荷用の「EVIS型」、成膜装置など重負荷用の「EVIM型」と合わせ、軽〜重負荷までの全領域でラインアップが揃った。
机译:EB原株式会社(神奈川县藤泽市元藤泽4-2-1,邮政编码4666-83-8111)将从2017年1月起销售用于半导体制造设备的新型水冷式干式真空泵“ EV-L”。新产品非常适合中等负载应用,例如金属蚀刻和多晶硅蚀刻。从开始销售​​该产品开始,将“ EVIS型”用于轻负荷,例如负载锁定室,检查设备和溅射设备;以及“ EVIM型”用于重负荷,例如薄膜沉积设备,从轻到重的所有区域阵容已经完成。

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  • 来源
    《半導体産業新聞》 |2016年第2225期|8-8|共1页
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