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GenISys,MEMS向けシミュレータを開発日本オフィスも開設しアジア地域へも事業を展開国内へは研究開発や大学を中心にツールの提供を検討

机译:GenISys,MEMS模拟器开发在日本建立办事处并扩大在亚洲的业务考虑以日本大学为中心的研发和工具

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摘要

独GenISysは,マスク・アライナを用いたフォトリソグラフィ工程向けシミュレーションツール「Layout LAB」を開発した。同ツールは主にMEMSやFPDの設計向けに提供されるツールで,仮想モデルを用いてレイアウトなどの最適化を実行することが可能である。また,同社は07年4月に日本オフィスを開設,アジア地域へ向けた事業展開を開始した。同社の取り扱うツールの詳細について,同社Director of Operations Asia-Pacific&JapanのJohn Sachen氏とVice President Glabal Sales&MarketingのNezih Unal氏に話を伺った。
机译:德国的GenISys已开发出“ Layout LAB”,这是一种使用掩模对准器的光刻工艺仿真工具。该工具主要为MEMS和FPD设计提供,并且可以使用虚拟模型执行优化(例如布局)。此外,该公司于2007年4月开设了日本办事处,并开始在亚洲地区开展业务。有关公司使用的工具的详细信息,我们采访了亚太和日本运营总监John Sachen和Glabal销售与营销副总裁Nezih Unal。

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