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X-RAY PROPERTIES OF CADMIUM TELLURIDE AND ZINC TELLURIDE THIN FILMS

机译:碲化镉和碲化锌薄膜的X射线特性

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摘要

Thin film of highly pure (99.999%) CdTe/ZnTe prepared by high vacuum technique (HVT 5 × 10~(-6) torr), on glass substrates have thickness 0.3 nm at different substrate temperatures. The X-ray diffraction study of the film represents amorphous nature at lower deposition temperature but poly-crystalline at higher deposition temperature. The film deposited at lower temperatures were annealed for one hour in vacuum of 5 × 10~(-3) torr at as-deposited to 600K.
机译:通过高真空技术(HVT 5×10〜(-6)托)在玻璃基板上制备的高纯度(99.999%)CdTe / ZnTe薄膜在不同基板温度下的厚度为0.3 nm。薄膜的X射线衍射研究表明,较低的沉积温度下为非晶态,而较高的沉积温度下为多晶。在较低的温度下沉积的薄膜在5×10〜(-3)托的真空下于原位沉积至600K退火一小时。

著录项

  • 来源
    《Acta Ciencia Indica》 |2010年第1期|P.51-54|共4页
  • 作者单位

    Marwar Business School, Gorakhpur (U. P.);

    S.V. Subharti University, Meerut (U. P.);

    N.G.B. University, Allahabad (U.P.);

    M.L.K.P.G. College, Batrampur (U.P.);

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  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
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