机译:用于p-MOSFET能量退化的当代负偏置温度不稳定性模型的统一
Department of Electrical Engineering, University of Malaya, Kuala Lumpur 50603, Malaysia;
Department of Electrical Engineering, University of Malaya, Kuala Lumpur 50603, Malaysia;
Department of Electrical Engineering, University of Malaya, Kuala Lumpur 50603, Malaysia;
Energy degradation; Reliability; CMOS lifetime;
机译:漏极偏置为28 nm的高K金属栅极p-MOSFET器件对负偏置温度不稳定性下降的新见解
机译:使用SiON栅极电介质恢复负偏置温度不稳定性引起的p-MOSFET退化
机译:具有超薄SiON栅极电介质的p-MOSFET的负偏置温度不稳定性导致的时间依赖性退化
机译:p-MOSFET中由沟道热载流子和负偏置温度不稳定性效应引起的退化建模
机译:具有氧氮化物栅极电介质的p + -poly PMOSFET中的热孔退化和负偏压温度不稳定性(NBTI)增强。
机译:光激励对insnzno厚度变化薄膜晶体管漏电流和负偏置不稳定性的影响
机译:p-mOsFET负偏压温度不稳定期间界面和体陷阱产生的研究与建模