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高速•低消費電力な1Xnmサイズ 不揮発性STT-MRAM用 東芝がMTJ素子開発

机译:高速,低功耗1Xnm大小的非易失性STT-MRAM东芝开发了MTJ元件

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摘要

東芝は将来の高性能•低消費電力コンビューティングに必要なキャッシュメモリー向けに、2Xナメーノトル世代以降のシリコントランジスタで製造可能な不揮発性磁性体メモリーSTT-MRAM用磁気トンネル接合(MTJ)素子を開発した。キャッシュメモリー用途として要求される3ナノ秒以下の高速動作性と100μA以下の低電流動作特性を、世界で初めて1Xナメーノトル(10ナメーノトル台)までのMTJ素子で実現した。同メモリーを使うことで、従来のキャッシュメモリー(SRAM)と比較して消費電力を低減することが可能になる。
机译:东芝开发了一种用于非易失性磁性存储器STT-MRAM的磁性隧道结(MTJ)元件,该元件可以用2倍Namenotl世代或更高版本的硅晶体管制造,用于未来高性能和低功耗计算所需的高速缓存。做到了。我们首次实现了高速缓存3纳秒或更短的高速可操作性和100μA或更小的低电流操作特性,这对于高速缓存应用来说是必需的,而MTJ器件最高可使用1X Namenotor(10 Namenotor)。通过使用该存储器,与传统的高速缓冲存储器(SRAM)相比,可以降低功耗。

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  • 来源
    《电波新闻》 |2016年第16940期|4-4|共1页
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