台湾•TSMC 6ナノプロセス「N6」発表N7に比べ□ジック密度18%向上

摘要

フアウンドリ世界最大手、台湾のTSMCは16日、6ナノメートルプロセス「N6」を発表した。20年にもリスク生産を開始する予定だ。N6は、現在量産中のDUVベースの7ナノメートルプロセス技術「N7」の改良版。EUV(極端紫外線)用いた7ナノメートルプロセス「N7+」(リスク生産中)で得られた新機能を活用することで、ロジック密度をN7に比べて向上したとしている。