机译:通过使用蒸气压控制的czochralski方法(VCz)在低温梯度下生长半绝缘GaAs晶体
GaAs; Liquid Encapsulated Czochralski (LEC); Vapour Pressure Controlled Czotrolled Czochralski (VCz); heat transfer;
机译:蒸汽压控制切克劳斯基技术(VCz)生长的半绝缘GaAs晶体中碳掺入的研究第一部分:实验和结果
机译:在没有B_2O_3封装的情况下,通过蒸气压控制的切克劳斯基(VCz)方法以非化学计量的方式生长GaAs
机译:3“ -4”砷化镓晶体的蒸气压控制Czochralski(VCZ)生长的全局温度场模拟
机译:s.i.的初步结果利用蒸气压控制的切克劳斯基方法生长GaAs单晶
机译:低压和高压切克劳斯基晶体生长的对流,偏析和热应力耦合模型。
机译:基于NH4Cl在In中升华的化学气相沉积法在Si(111)上低温生长In2O3和InN纳米晶体。
机译:用蒸气压控制的Czochralski技术生长的硼还原Gaas晶体的缺陷分布
机译:用于LEC(液体包封晶体)Gaas的Czochralski生长的自主控制系统