机译:使用紫外线激光光刻技术实现细线
机译:248 nm准分子激光器在印刷电路板上精细电路线的激光结构化中的可行性
机译:248 nm准分子激光在印刷电路板上细电路线的激光结构化中的可行性
机译:使用MSAP实现精细的线条和空间
机译:利用掩模和直接写入UV激光光刻技术的高密度树脂涂层箔(RCF)基板
机译:印刷电路板中超细电路线的激光结构化:激光结构化,掺钕钇铝石榴石激光器,精细电路线。
机译:通过紫外皮秒激光的初步制备工艺根据聚合物的细曲率提高激光烧蚀效率的方法的开发
机译:评估深紫外ANR光致抗蚀剂248.4nm。准分子激光光刻法。
机译:利用氮化铟镓(InGaN)/氮化镓(GaN)异质结构的负极化特性实现具有深紫外(<250nm)发射的频率倍增蓝绿激光(2年级)。