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Thin, Void-free Electroless Copper: Enables Miniaturization, Reliability

机译:薄而无空隙的化学铜:实现小型化,可靠性

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摘要

Traditional electroless coppers have two shortcomings that produce challenges during manufacturing. Internal stress in the electroless copper deposit leads to blistered deposits, and poor adhesion of the deposit itself limits lines and spacing miniaturization.
机译:传统的化学镀铜有两个缺点,在制造过程中会带来挑战。化学镀铜中的内应力会导致镀层起泡,而镀层本身的不良附着力会限制线条和间距的缩小。

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