光・IT技術のための粉体ナノテクノロジー: ナノ粒子による電子デバイスの低温形成技術 - AD法によるセラミックス微粒子の常温衝撃固化現象とその応用

摘要

近年，高機能な電子デバイスへの要求が高まる中，複合酸化物材料の集積化プロセスとして各種薄膜技術の検討か活発化してきている。薄膜プロセスは，活性な原子・分子レベルから材料を積み上げ，結晶化するため，従来窯業法に比べ大幅なプロセス温度の低減が期待でき，薄膜集積化デバイス実現の要になると考えられる。膜厚1μm以下の素子レベルの集積化では，FeRAMの例に見られるように，結晶性の向上や配向制御によりスパッター法やCVD法，ゾルゲル法など従来薄膜技術の膜特性を大幅に向上し，実用レベルを迎えたものもある。