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机译:空心阴极活化PECVD工艺对外加功率对含硅等离子体聚合物涂层阻隔性能的影响
Fraunhofer Inst Organ Elect Electron Beam & Plasm, Winterbergstr 28, D-01277 Dresden, Germany|Univ Groningen, Dept Appl Phys, Groningen, Netherlands;
Fraunhofer Inst Organ Elect Electron Beam & Plasm, Winterbergstr 28, D-01277 Dresden, Germany;
Univ Groningen, Dept Appl Phys, Groningen, Netherlands;
barrier; DC discharges; hexamethyldisiloxane (HMDSO); hollow cathode; plasma polymerization;
机译:高功率等离子喷雾设备 - 加工,性能和经济学的高孔隙率热障涂层
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