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机译:直接测量SiC(0001)和SiC(0001)上石墨烯的生长模式
IBM Research Division, TJ. Watson Research Center, Yorktown Heights, New York 10598, USA;
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low energy electron microscopy (LEEM);
机译:Re和Nb在4H-SiC(0001)和4H-SiC(0001)上的单层生长模式
机译:使用氨分子束外延法在4H-SiC(0001)和Si(111)衬底上以低生长速率生长的高质量AlN(0001)层的原位NC-AFM测量
机译:通过Ni硅化反应生长的SiC(0001)和SiC(0001)表面上的石墨烯
机译:4H-SiC(0001),(0001)和4H-SiC:H表面上物理吸附和化学吸附的单石墨烯层的密度泛函模拟
机译:微金属应用中通过金属有机气相外延生长在6H-SiC(0001)衬底上的GaN和AlGaN的生长,掺杂和表征。
机译:KrF-准分子激光辐照在SiC(0001)上直接生长石墨烯
机译:直接测量石墨烯生长模式SiC(0001)和SIC(0001)