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Direct Measurement of the Growth Mode of Graphene on SiC(0001) and SiC(0001)

机译:直接测量SiC(0001)和SiC(0001)上石墨烯的生长模式

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摘要

We have determined the growth mode of graphene on SiC(0001) and SiC(0001) using ultrathin, isotopically labeled Si~(13)C "marker layers" grown epitaxially on the Si~(12)C surfaces. Few-layer graphene overlayers were formed via thermal decomposition at elevated temperature. For both surface terminations (Si face and C face), we find that the ~(13)C is located mainly in the outermost graphene layers, indicating that, during decomposition, new graphene layers form underneath existing ones.
机译:我们已经使用在Si〜(12)C表面外延生长的超薄同位素标记的Si〜(13)C“标记层”确定了石墨烯在SiC(0001)和SiC(0001)上的生长方式。在高温下通过热分解形成了几层石墨烯覆盖层。对于两个表面终端(Si面和C面),我们发现〜(13)C主要位于最外层的石墨烯层中,这表明在分解过程中,新的石墨烯层在现有石墨烯层下方形成。

著录项

  • 来源
    《Physical review letters》 |2011年第16期|p.166101.1-166101.4|共4页
  • 作者单位

    IBM Research Division, TJ. Watson Research Center, Yorktown Heights, New York 10598, USA;

    IBM Research Division, TJ. Watson Research Center, Yorktown Heights, New York 10598, USA;

    IBM Research Division, TJ. Watson Research Center, Yorktown Heights, New York 10598, USA;

  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

    low energy electron microscopy (LEEM);

    机译:低能电子显微镜(LEEM);

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