机译:磷注入硅太阳能电池退火扩散扩散模型
Corporate Research, Robert Bosch GmbH, Gerlingen-Schillerhöhe, Germany;
Annealing; Approximation methods; Cascading style sheets; Photovoltaic cells; Photovoltaic systems; Silicon; Surface treatment; Annealing; defects; diffusion; implantation; phosphorus; photovoltaics; silicon; solar cell; solar energy;
机译:注入后退火条件对磷注入发射极晶体硅太阳能电池电特性的影响
机译:使用快速热退火(RTA)制备的原位磷掺杂多晶硅及其对多晶硅钝化 - 接触太阳能电池的应用
机译:热注入后退火过程中重注入低压化学气相沉积硅薄膜中硼扩散的建模
机译:通过磷扩散,硼扩散和铝退火吸收n型多晶硅太阳能电池
机译:离子注入硅的热退火过程中的磷缺陷相互作用。
机译:通过简单的1分钟退火过程对硅表面进行钝化以增强混合异质结太阳能电池的光伏性能
机译:用POCl3扩散或离子注入和退火制备的c-Si太阳能电池中磷分布的模拟
机译:离子注入技术适用于制造高效硅太阳能电池离子注入电子束退火电池的研究:最终报告