机译:ITO / PTCDA / p-Si薄膜器件的表面和界面特性
The Graduate School at Shenzhen, Tsinghua University, Shenzhen 518055, China;
机译:PTCDA / p-Si异质结的表面和界面状态的XPS分析
机译:ZrSiO_4薄膜的热相分离和AI / ZrSiO_4 / p-Si / AI MOS电容器的频率相关电特性
机译:Al_2O_3薄膜在硅衬底上制备的ZnO薄膜表面声波器件的特性
机译:在PTCDA薄膜中吸收Frenkel激子,PTCDA / ALQ3多层和共沉膜薄膜
机译:氧化物表面和金属氧化物界面的反应性:水蒸气压力对超薄氧化铝膜的影响,以及铂在超薄氧化膜上的生长模式及其对粘附力的影响的研究。
机译:基于具有拟反相关界面的波纹金属薄膜的表面势垒异质结构中表面等离子-极化子的介电环境敏感性增强
机译:表面电子极化和有机分子薄膜 晶体:pTCDa