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机译:磁控溅射过程中TiN薄膜的生长方式和织构发展-原位同步辐射研究
Project Group ESRF-Beamline, Forschungszentrum Rossendorf, P.O. Box 510119, D-01314 Dresden, Germany;
thin films; magnetron sputtering; In situ X-ray scattering; TiN;
机译:离轴磁控溅射系统,用于通过同步加速器辐射散射原位研究人造超晶格生长
机译:原位薄膜应力测量揭示了反应磁控溅射TiN薄膜中应力和织构的共同发展
机译:磁控溅射沉积二氧化钒薄膜的生长方式和织构研究
机译:一种配备有另外的离子枪的两种磁控溅射沉积室,用于通过同步辐射散射的薄膜生长和表面改性的诸如薄膜生长和表面改性的额外的离子枪
机译:原位光谱椭圆偏振法研究直流反应磁控溅射沉积的硅膜的结晶度和界面结构。
机译:磁控溅射参数和W膜前驱体的应力状态对快速硒化对WSe2层织构的影响
机译:与行业相关的磁控溅射和阴极电弧超高真空沉积系统,用于利用高能同步加速器辐射进行薄膜生长的原位X射线衍射研究