机译:氦离子束处理对二氧化硅湿法刻蚀的影响
Saint-Petersburg State University;
Saint-Petersburg State University;
Saint-Petersburg State University;
Saint-Petersburg State University;
Ion beam enhanced etching; Silicon dioxide; Helium ion microscope; Radiation-induced defects;
机译:氦离子束处理对氮化硅刻蚀速率的影响
机译:单晶圆湿法刻蚀稀氟化氢刻蚀二氧化硅薄膜的表面化学反应模型
机译:无掩模湿法刻蚀二氧化硅后CMOS工艺及其应用
机译:在Fowler-nordheim的逐步湿法蚀刻期间氧化物表面粗糙度在彼得·诺德海姆的逐步湿法蚀刻型二氧化硅薄膜期间循环湿法施用氮二氧化硅膜表面粗糙度
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:异丙醇浓度和刻蚀时间对低电阻晶体硅晶片湿化学各向异性刻蚀的影响
机译:能量可调谐分子束在二氧化硅和十环富勒氯硅烷改性的二氧化硅上沉积有机薄膜