次世代プロセス用レジスト技術で先行先進ユーザーの要求に速やかに対応: 最新鋭の実装・評価ラインを揃えた新研究棟も建設

摘要

電子デバイス用フォトレジストの大手である東京応化工業は，プロセス技術の進化とともに高度化するユーザーのニーズに迅速に対応するため，45nmノード以降に向けた製品開発を加速している。液浸露光向けフォトレジストおよびトップコートをはじめ，市場ニーズを先取りしながら，すでに多彩な製品を揃えている。さらに300mmウェハ対応で統一した最新鋭の実装・評価ラインを設置した新研究棟を拠点にして．次世代プロセス開発に挑むユーザーを一段と強力に支援する考えだ。