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【24h】

Arf液浸用レジストの新生産拠点が完成本格化する40nm世代以降の需要に対応: 最先端のarf液浸露光装置を導入したクリーンルームも稼僷開始

机译:完成Arf浸没抗蚀剂的新生产基地的响应满足40nm及以后的全面需求:开始使用最先进的Arf浸没曝光设备获得洁净室

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摘要

住友化学は,ArF液浸用レジストの本格的な量産を開始する。需要の急増に備えて同社大阪工場内に建設中のArF専用の新 たな量産工場が(本年)12月末に完成予定。いよいよ2009年初めから同工場を使った生産を始める。これに先駆けて最新鋭 のArF液漫露光装置を導入したクリーンルームを設けており,最先端のプロセス開発に取り組む半導体メーカーを強力に支 援する体制も整えている。
机译:住友化学将开始大规模生产用于ArF浸渍的抗蚀剂。为了准备激增的需求,该公司大阪工厂内正在建设的专门用于ArF的新批量生产工厂计划于今年12月底竣工。最后,生产将于2009年初在同一家工厂开始。在此之前,洁净室已安装了最新的ArF液浸曝光设备,并且该系统已经到位,可以大力支持从事尖端工艺开发的半导体制造商。

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