基本へ帰る現像後検査

摘要

液浸リソグラフィやダブルパターンニングなどの革新的なリソグラフrnィ技術は、デザインルールの微細化や高速で複雑なデバイスの実現rnを加速している。検査技術がパターン形成技術と共に進化するのにrn比べ、リソグラフィセルで欠陥を監視して歩留まり低下を防止するたrnめの基本要素は、数世代のデバイスを経ても変わらない。