...
首页> 外文期刊>日経マイクロデバイス >ポストDRAMの座を狙う新型RAMの開発競争が激化
【24h】

ポストDRAMの座を狙う新型RAMの開発競争が激化

机译:旨在扩大后DRAM地位的新RAM开发竞赛

获取原文
获取原文并翻译 | 示例

摘要

DRAM代菅を狙う新型RAMの開発朝争が激化している。LSlメーカー各社がrnDRAM代替に向けて注力するメモリーは,SOI(silicon on insulator)基板を使rnったキャパシタレスDRAM (SOI型RAM),MRAM(magnetoresistive RAM),rnPRAM(phasechange RAM),ReRAM(resistive RAM)である。これらの新型rnRAMの集積度や動作速度をDRAM並みに高める手法が,ここに来て相次いでrn出てきた。連載の第4回は,こうした新型RAMの開発の最新動向を紹介する。
机译:针对面向DRAM Daisuga的新型RAM的开发之战日趋激烈。 LSl制造商专注于替代rnDRAM的内存是无电容器DRAM(SOI类型RAM),MRAM(磁阻RAM),rnPRAM(相变RAM)和ReRAM(电阻性),它们使用SOI(绝缘体上硅)衬底。内存)。在这里,一种将这些新的rnRAM的集成度和操作速度提高到DRAM级别的技术层出不穷。本系列的第四篇文章将介绍这些新RAM开发的最新趋势。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号