20nm世代以降のArF液浸レジスト開発を加速材料技術の強みを生かしてニーズに柔軟対応

摘要

ArF液浸露光技術は，光源に従来のArFレーザーを使用し，光学系とパターンを形成するArFレジストの間を空気よりも屈折率が高い液体（水）で満たし，光学系の開口率（NA）をアップ。これによって露光時の解像度を高める技術である。すでに30～50nmのプロセスではArF液浸露光が主流になっている。