机译:使用中空结构模具观察UV纳米压印树脂的填充行为
Department of Applied Electronics, Tokyo University of Science, 2641 Yamazaki, Noda, Chiba 278-8510, Japan;
Department of Applied Electronics, Tokyo University of Science, 2641 Yamazaki, Noda, Chiba 278-8510, Japan;
Department of Applied Electronics, Tokyo University of Science, 2641 Yamazaki, Noda, Chiba 278-8510, Japan;
Toyo Gosei Co. Ltd., Photosensitive Materials Research Center, 4-2-1 Wakahagi, Inba-mura, Inba-gun, Chiba 270-1609, Japan;
nanoimprint lithography (NIL); UV photocurable resin; hydrogen silsesquioxane (HSQ); contact angle; surface energy;
机译:在不同气氛中使用PDMS模具填充UV纳米压印中的行为和脱模力
机译:使用PDMS模具在不同气氛下进行UV纳米压印的填充行为和脱模力
机译:模具几何形状和初始抗蚀剂厚度对UV-纳米压印光刻中填充行为的影响
机译:在不同气氛下使用PDMS模具在UV纳米压印中的填充行为和脱模力
机译:用于纳米压印和高级纳米加工的柔性聚合物模具和紫外线固化材料
机译:用于热NIL的纳米结构模具的UV树脂的选择
机译:使用可再加工二甲基丙烯酸酯的UV纳米压印制备uV纳米压印
机译:基于灵敏度的浇口位置算法在树脂传递模塑(RTm)过程中的最佳充型。