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机译:通过VPD ICP-MS监控晶圆清洁度和金属污染:下一代要求的案例研究
Technos International, 60 E. Rio Salado Parkway Suite 900, Tempe, AZ 85281, United States;
rnAir Liquids Electronics - Balazs NanoAnalysis, 46409 Landing Parkway, Fremont, CA 94538, United States;
VPD ICP-MS; metal contamination; VPD recovery rates; automated VPD;
机译:利用TXRF和VPD-TXRF分析晶圆边缘和斜面的痕量金属污染
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机译:使用气相分解–液滴收集–全反射X射线荧光(VPD-DC-TXRF)对硅晶片上的Pt组元素进行金属污染分析的研究
机译:通过自动VPD ICP-MS对晶片边缘和斜角进行痕量金属污染分析:CFM:无污染制造
机译:采用SOI技术的经济高效的晶圆清洁度集成无线监控。
机译:三磷酸腺苷生物发光测定法用于监测麻醉师工作环境的污染和手术室的清洁度
机译:使用HF-aqua Regia混合物在si晶片上收集贵金属污染物的效率,用于VpD-DC ICpms分析
机译:分散存储和生成(DsG)的监视和控制需求定义研究。第5卷,附录D:为电力公用事业提供分散存储和发电的成本效益考虑因素