机译:厚度对可逆相变光记录Bi-Ge-Sb-Te膜的影响
Institute of Mechatronoptic Systems, Chienkuo Technology University, Changhua, Taiwan 500, ROC;
Bi-Ge-Sb-Te film; dc magnetron sputtering; thickness; optical recording;
机译:Bi-Ge-Sb-Te薄膜用于可逆相变光学记录
机译:Bi-Ge-Sb-Sn-Te薄膜用于可逆相变光学记录
机译:掺杂Ge-Sb-Te相变材料用于可逆相变光学记录
机译:用于可逆相变光学记录的Bi-Ge-SB-TE薄膜
机译:在相变光盘上记录多级行程限制(ML-RLL)调制信号。
机译:通过光学性质定量的可逆氧化(001)上的外延Fe2CrO4 +δ薄膜的腐蚀氧化镁
机译:相变可逆光学记录介质的最新进展