机译:退火温度对旋涂AZO薄膜性能的影响
Kansai Univ, Dept Elect & Elect Engn, Suita, Osaka 5648680, Japan;
Kansai Univ, Dept Elect & Elect Engn, Suita, Osaka 5648680, Japan;
AZO; Spin coating method; Annealing temperature; Electrical resistivity;
机译:退火温度对AZO纳米片包覆FTO基薄膜形成和光电性能的影响
机译:退火温度对AZO / Pd / AZO薄膜结构,光学和电学性质的影响
机译:退火温度对旋涂CZTS薄膜形态和光电子性能的影响
机译:退火温度对浸纺有ZnO薄膜结构和光学性质的影响
机译:氢退火和衬底温度对射频溅射氧化锌薄膜性能的影响
机译:添加锌和真空退火时间对旋涂低成本1 at%Ga–ZnO薄膜透明导电薄膜性能的影响
机译:退火温度对浸涂和旋涂ZnO薄膜结构和光学性能的影响