机译:择优取向对不平衡磁控溅射沉积在SKD11上的氮化铬涂层机械性能的影响
National Taichung Institute of Technology, 129 San-min Rd., Sec. 3, Taichung 404, Taiwan, ROC;
chromium nitride; preferred orientation; unbalanced magnetron sputtering; corrosion; wear;
机译:通过不平衡磁控溅射在钢上沉积具有各种优选取向的氮化铬涂层的电化学行为
机译:通过不平衡磁控溅射在钢上沉积具有各种优选取向的氮化铬涂层的电化学行为
机译:大功率脉冲磁控溅射和定向阴极电弧/不平衡磁控管组合技术沉积的氮化铬基涂层的组织和力学性能比较
机译:择优取向对不平衡磁控溅射沉积在不锈钢上的氮化铬镀层电化学腐蚀性能的影响
机译:调制脉冲功率磁控溅射沉积氮化钛和氮化铝钛涂层的摩擦学和结构性能
机译:磁控溅射沉积的ZrZr氮化物和Zr-碳氮化物涂层的合成微观结构表征及纳米抑制
机译:高功率脉冲磁控溅射和不平衡磁控溅射技术相结合产生的多层氮化铬/氮化铌涂层的缺陷生长