机译:电子束物理气相沉积技术沉积氧氮化硅薄膜的表征
School of Energy Studies, University of Pune, Pune 411 007, India;
optical materials and properties; silicon oxynitride; thin films; deposition; EB-PVD technique; antireflective coating;
机译:各种衬底材料对等离子体增强化学气相沉积沉积的非晶硅氮氧化物薄膜微观结构和光学性能的影响
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机译:通过喷射气相沉积技术形成的超薄氧氮化硅栅介质膜的电学和物理特性
机译:微波等离子体电子回旋共振化学气相沉积法沉积的纳米晶和非晶硅薄膜晶体管:材料分析,器件制造和表征。
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机译:等离子体增强化学气相沉积沉积氮化硅和氮氧化硅薄膜的材料结构和机械性能
机译:反应电子束 - 物理气相沉积(EB-pVD)沉积的微米厚氧化钆薄膜的工艺 - 结构 - 性质关系。