机译:使用高结晶度BaTiO_3作为缓冲层的高浓度溶液化学沉积(100)取向的BaTiO_3膜
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, 2266-98 Anagahora, Shimoshidami, Moriyama-ku, Nagoya 463-8560, Japan;
chemical solution deposition: BaTiO_3; films; electrical properties;
机译:化学溶液沉积法制备的(100)在MgO上具有BaZrO_3缓冲层的三轴取向BaTiO_3薄膜
机译:通过一步化学溶液沉积制备高度(100)取向的BaTiO_3薄膜的电学性质对厚度的依赖性
机译:LaNiO_3缓冲层厚度对Si衬底上(100)取向BaTiO_3薄膜的微观结构和电性能的影响
机译:用高结晶度BATIO_3作为缓冲层,用高浓度的溶液沉积(100)的BATIO_3薄膜
机译:沉积在Ag(100)上的亚单层和多层Ag膜的扫描隧道显微镜研究(银膜,动力学粗糙化,均质性)。
机译:通过薄中间缓冲层在硅上沉积的优先取向BaTiO3薄膜
机译:化学溶液沉积的BaPbO3缓冲层用于锆钛酸铅铁电薄膜
机译:Gd2Zr2O7薄膜化学溶液合成及性能评价作为第二代高温超导线缓冲层(后印刷)。