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机译:通过表面改性提高Si场致发射器阵列的发射均匀性
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, AIST Tsukuba Central 2, 1-1-1 Umezono, Tsukuba, Ibaraki 305-8568, Japan;
机译:通过表面处理提高碳纳米管场发射显示器的发射特性均匀性
机译:提高门控CuO纳米线场发射体阵列发射均匀性的技术研究
机译:提高门控CuO纳米线场发射体阵列发射均匀性的技术研究
机译:通过表面改性改善Si场发射体阵列的电子发射特性
机译:通过化学气相沉积可控制生长均匀直径的多壁碳纳米管阵列,以用于场发射器件。
机译:纳米电喷雾发射器阵列提供发射器间电场均匀性
机译:最近的现场排放研究的发展。表面改性改善硅场发射器。