机译:V_2O_5薄膜的离子束溅射沉积
lnstitutfilrMaterialphysik, Westfillische Wilhelms-UniversMt, Wilhelm-Klemm Str. 10, D-48149 Miinster, Germany;
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ion beam sputter deposition; V_2O_5 thin films; XRD; TEM; EELS; Li intercalation;
机译:电子束沉积,离子辅助沉积,反应性低压离子镀和双离子束溅射沉积的二氧化硅薄膜的抗激光损伤性
机译:光学薄膜离子束溅射沉积过程中沉积速率的变化
机译:双离子束溅射沉积沉积薄碳酸薄膜膜
机译:RF磁控溅射在非碱玻璃基板上沉积钨掺杂的V_2O_5薄膜,用于保温
机译:通过离子束溅射沉积的介电薄膜,用于基于III-V的红外光电成像。
机译:靶成分和溅射沉积参数对沉积在聚合物基底上的氮化银-坡莫合金柔性薄膜功能性能的影响
机译:电脑仿真散射离子和溅射物种在高温超导薄膜离子束溅射沉积中的影响
机译:高温超导薄膜离子束溅射沉积中散射离子和溅射物种效应的计算机模拟