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机译:利用Mems技术制备和评价X射线光刻用灰度掩模
x-ray lithography (xrl); synchrotron radiation; grayscale mask; tapered trench etching; micro-electro-mechanical-systems (mems);
机译:使用MEMS技术制造和评估用于X射线光刻的灰度掩模
机译:基于基于铅的X射线掩模的X射线光刻和干膜转移至PCB工艺的静电MEMS微致动器的制造
机译:MEMS技术制造的用于深X射线光刻的Si模板掩模
机译:使用MEMS技术的三维X射线掩模的制造
机译:下一代光刻掩模的比较分析:PREVAIL和SCALPEL技术。
机译:基于一步法无掩模灰度光刻的具有任意表面轮廓的微光学元件的制备
机译:改进的X射线光刻掩模技术的畸变分析
机译:通过具有50nm线宽的X射线掩模的三电平电子束光刻制造,以及通过X射线纳米光刻复制