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机译:极端紫外线聚合物结合的光致产酸剂的分辨率-线宽粗糙度灵敏度性能折衷
IMEC Kapeldreef 75 B-3001 Leuven, Belgium;
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Tokyo Electron America, Inc. 2400 Grove Boulevard Austin, Texas 78741;
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Tokyo Electron Kyushu Ltd. 1-1 Fukuhara, Koshi-shi Kumamoto 861-1116, Japan;
Tokyo Electron Kyushu Ltd. 1-1 Fukuhara, Koshi-shi Kumamoto 861-1116, Japan;
Tokyo Electron Kyushu Ltd. 1-1 Fukuhara, Koshi-shi Kumamoto 861-1116, Japan;
extreme ultraviolet; lithography simulation; resolution; linewidth roughness; resist sensitivity;
机译:极限紫外线聚合物结合的光酸发生剂的分辨率-线宽粗糙度-灵敏度性能的权衡
机译:聚合物结合和聚合物混合光酸发生剂的抗性研究
机译:用于极端紫外光刻的高光产酸剂的分辨率,线边缘粗糙度,灵敏度折衷和量子产率
机译:聚合物键合和光混合的光酸发生剂的溶解行为研究
机译:极紫外光致抗蚀剂:薄膜抗蚀剂的薄膜量子产率和LER。
机译:环氧聚合物混凝土在湿热条件和紫外线老化下的残余挠曲性能
机译:聚合物结合和聚合物混合光酸发生器中的溶出动力学
机译:用于干式显影正极性抗蚀剂的高硅含量甲硅烷基化试剂,适用于极紫外(13.5 nm)和深紫外(248 nm)微光刻