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机译:10纳米节点FinFET器件的栅极双图案化策略
IMEC, Kapeldreef 75, B-3001 Leuven, Belgium;
SC Etch Tech Solutions, Strada Oancea 3, Iasi, Romania;
Lam Research Corp., Kapeldreef 75, 3001 Leuven, Belgium;
IMEC, Kapeldreef 75, B-3001 Leuven, Belgium;
IMEC, Kapeldreef 75, B-3001 Leuven, Belgium;
IMEC, Kapeldreef 75, B-3001 Leuven, Belgium;
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