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机译:吸附在二氧化硅基质(0001)上用于气相沉积的不同硅烷偶联剂的生长行为和表面形貌
Beijing Key Laboratory for Powder Technology Research and Development Beijing University of Aeronautics and Astronautics Beijing 100083 P.R. China;
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机译:吸附在二氧化硅基质(0001)上用于气相沉积的不同硅烷偶联剂的生长行为和表面形貌
机译:通过气相沉积吸附在二氧化硅衬底上的γ-氨基丙基三乙氧基硅烷和十二烷基三甲氧基硅烷薄膜的表面形貌和特性
机译:二氧化硅偶联剂上硅烷偶联剂的光滑,无聚集体自组装单层沉积
机译:沉积在由原子力显微镜的二氧化硅基底(0001)上沉积在二氧化硅底物(0001)的表面形貌
机译:通过有机金属气相外延在6H-碳化硅(0001)衬底上横向生长氮化镓薄膜的横向外延技术。
机译:二氧化硅表面上氨基硅烷溶液相和气相沉积的比较研究
机译:二氧化硅表面氨基硅烷溶液相和气相沉积的比较研究
机译:吸附在硅粉上的硅烷偶联剂结构