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机译:C4F8 / Ar / O-2等离子体刻蚀对SiO2表面化学的影响
机译:用于干法蚀刻的CF4 / O-2 / Ar和C4F8 / O-2 / Ar等离子体的比较研究
机译:Si和SiO2刻蚀机理在CF4 / C4F8 / Ar电感耦合等离子体中的应用
机译:使用C4F8 / Ar / O-2混合气体在双同步脉冲电容耦合等离子体中的脉冲相位滞后对SiO2蚀刻特性的影响
机译:在电感耦合等离子体反应离子蚀刻系统中使用基于SF6 / C4F8 / AR / O2的SF6 / C4F8 / AR / O2的石英的高速各向异性蚀刻
机译:硅的等离子体蚀刻:表面化学和等离子体环境。
机译:腔室壁对使用循环Ar / C4F8等离子体的氟碳辅助的SiO2原子层蚀刻的影响
机译:高密度C4F8 / O 2 / Ar和C4F8 / O2 / Ar / CH2F2Plash的表面反应和气相化学研究,用于接触孔蚀刻