机译:粉末压实靶通过射频磁控溅射制备In掺杂ZnO薄膜的一些物理研究
Laboratoire de Photovoltaieque et Materiaux Semiconducteurs, ENIT, Universite Tunis El Manar, BP 37, Le belvedere, 1002 Tunis, Tunisia;
Laboratoire de Photovoltaieque et Materiaux Semiconducteurs, ENIT, Universite Tunis El Manar, BP 37, Le belvedere, 1002 Tunis, Tunisia;
Laboratoire de Photovoltaieque et Materiaux Semiconducteurs, ENIT, Universite Tunis El Manar, BP 37, Le belvedere, 1002 Tunis, Tunisia;
机译:厚度对射频磁控溅射制备的掺杂ZnO薄膜性能的影响
机译:射频磁控溅射制备In掺杂纳米ZnO薄膜的热电和磁热电性质
机译:纳米粉末压实靶磁控溅射制备La_(0.7)sr_(0.3)mno_3薄膜的性能:衬底温度的影响
机译:射频磁控溅射粉末靶制备Zn
机译:使用不平衡磁控溅射制造适用于薄膜晶体管的掺镓ZNO薄膜。
机译:射频磁控溅射制备(MgAl)共掺杂ZnO薄膜的光电性能研究与研究
机译:射频磁控溅射制备ZnO:Al薄膜的研究