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机译:通过AP-MOCVD在AlN缓冲剂的作用下,Si(1 1 1)衬底上ZnO薄膜的生长和性能
Education Ministry Research Center for Luminescence Materials and Devices, Nanchang University, 330047 PR China;
ZnO/AlN/Si film; AP-MOCVD; in situ monitor; XRD; photoluminescence;
机译:通过AP-MOCVD在AlN缓冲剂的作用下,Si(111)衬底上ZnO薄膜的生长和性能
机译:使用薄AlN缓冲层在Si(111)衬底上MOCVD生长ZnO膜
机译:ZnO缓冲层对在250℃低生长温度下在Al_2O_3(0001)衬底上生长的Ga掺杂ZnO薄膜性能的影响
机译:用AlN和低温ZnO双缓冲液通过金属化学气相沉积在Si(111)上的ZnO膜的生长
机译:块状AlN单晶衬底上的富铝AlGaN和AlN生长
机译:溅射AlN:Er薄膜的基底温度相关特性用于Al / AlN多层涂层健康的原位发光传感
机译:用Al预播种AlN缓冲液在SiC / Si(111)衬底上生长的GaN薄膜的生长和表征