机译:新型闪蒸法制备电阻温度系数小的非晶态Ni-Si薄膜
Department of Electronic Engineering, Faculty of Science & Technology, Kinki University, 3-4-1 Kowakae Higashiosaka City Osaka, Japan 577;
flash evaporating method; Ni-Si; thin films;
机译:闪蒸表征非晶态Ni-Si二元合金薄膜
机译:闪蒸表征非晶态Ni-Si二元合金薄膜
机译:Bi_(0.4)Te_(3.0)Sb_(1.6)薄膜的快速蒸发法制备与表征
机译:磁控溅射法制备高耐抗温度 - 系数钒氧化物膜
机译:通过在高温和低压下制造来改善氢化非晶硅太阳能电池的光诱导降解
机译:使用溶液法低温制造用于非晶铟-镓-氧化锌薄膜晶体管的HfO2钝化层
机译:闪蒸法制备铋碲化物基合金薄膜热电发生器及其表征