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机译:UV-O_2,NF_3 / H_2表面制备对硅同质外延晶体缺陷的影响(第一部分,光化学表面制备系列研究)
A1. Defects; A1. Impurities; A1. Surface preparation; A2. Growth from vapor;
机译:通过搅拌介质研磨对硅纳米颗粒进行厌氧与需氧制备。双氧,研磨溶剂和研磨时间对粒度,表面积,结晶度,表面/近表面组成和反应性的影响
机译:搅拌介质研磨的厌氧对硅纳米粒子的有氧含量。二恶英,研磨溶剂和研磨时间对粒径,表面积,结晶度,表面/近表面组成和反应性的影响
机译:制备(0 0 1)ZnSe表面用于同质外延
机译:制备(0 0 1)ZnSe曲面的同性境
机译:表面处理对钨在硅(100)和多晶氮化钛表面上化学气相沉积的影响
机译:肺炎克雷伯菌细胞表面制剂的小鼠免疫保护活性:与核糖体制剂的比较研究
机译:通过偏振显微镜研究结晶药物。 XVI。使用晶体习惯的相似性制备结晶药物的粒度和比表面积分布曲线