机译:ZnO缓冲层厚度对低压MOCVD沉积ZnO薄膜性能的影响
College of Electronic Science and Engineering, State Key Laboratory on Integrated Optoelectronics, Jinlin University, Jiefang Road 119, ChangChun 130023, People's Republic of China;
A1. Buffer layer; A1. Photoluminescence; A1. Sapphire substrate; B1. ZnO;
机译:ZnO缓冲层厚度对MOCVD沉积MgxZn1-xO薄膜性能的影响
机译:ZnO缓冲层厚度对射频磁控溅射沉积ZnO薄膜性能的影响
机译:ZnO缓冲层厚度对MOOD沉积Mg_xZn_(1-x)O薄膜性能的影响
机译:ZnO膜在(0001)A1_2O_3和(111)Si衬底上沉积的ZnO膜通过MOCVD用作缓冲层的ZnO薄膜生长的GaN层
机译:半透明氧化锌:低温制备的铝/铜(I)氧化物薄膜异质结:结处本征ZnO缓冲层的作用
机译:Al掺杂对原子层沉积ZnO薄膜性能的影响
机译:沉积在ZnO缓冲层上的pZT薄膜的光学性质
机译:基于Znse和ZnO缓冲层的多晶薄膜CuInse(sub 2)太阳能电池的研究。最终报告,1992年2月16日 - 1995年11月15日