机译:低压金属有机气相外延法生长氮化镓的三维成核
High Pressure Research Center UNIPRESS, Polish Academy of Sciences, ul. Sokolowska 29/37, Warsaw 01-142, Poland;
A1. atomic force microscopy; A1. crystal structure; A1. stresses; A3. metalorganic chemical vapour deposition; A3. selective epitaxy; B2. semiconducting gallium compounds;
机译:使用数字生长技术通过金属有机气相外延生长的氮化铝镓合金
机译:使用数字生长技术通过金属有机气相外延生长的氮化铝镓合金
机译:通过金属有机气相外延在蓝宝石晶片上生长Ga和N极性氮化镓层
机译:金属有机汽相外延生长在块状GaN晶体上生长的Ⅲ族氮化物分布布拉格反射器和共振腔
机译:通过低压金属有机气相外延生长以及氮化镓和氮化铟镓薄膜的表面特性。
机译:用于发光二极管应用的GaN导线在Si(111)上的金属有机气相外延生长
机译:金属有机化学气相沉积法生长氮化镓的同质和异质外延
机译:镓弧蒸发系统氮化镓气相氮化物生长氮化镓的研究。