机译:热壁外延制备掺杂Pb_(1-x)(Mg_(1-y)Sr_y)_xS薄膜的光电性能
The Research Institute for Electric and Magnetic Materials, 2-1-1 Yagiyama-minami, Sendai 982-0807, Japan;
A1. solid solutions; A3. hot wall epitaxy; B2. semiconducting lead compounds; B2. semiconducting quaternary alloys; B3. laser diodes;
机译:热壁外延制备的Pb_(1-x)Ca_xS_(1-y)Se_y / PbS异质结构的生长和结构表征
机译:液体传递气相沉积制备的(Pb_(1-x)Ba_x)TiO_3薄膜:工艺参数对成膜和电学性能的影响
机译:镁含量和硼掺杂对MOCVD制备的Zn_(1-x)Mg_xO薄膜结构,电学和光学性能的影响
机译:氧化锌薄膜的电气和光学性能和分子束外延制备的重氧化铝掺杂氧化锌薄膜
机译:镧镍氧化物电极上MOCVD衍生的钙钛矿铅锆(x)钛(1-x)氧(3)和铅(scan钽)(1-x)钛(x)氧(3)薄膜的微观结构和电性能缓冲硅
机译:射频磁控溅射制备(MgAl)共掺杂ZnO薄膜的光电性能研究与研究
机译:(SNO 2 sub>) x sub>的光学和电学特性(在 2 sub> O 3 sub>) 1-x sub>通过脉冲激光沉积技术制备的薄膜