机译:分子束外延生长应变对称调制掺杂Si / SiGe结构的结构研究
Paul Scherrer Inst, Lab Micro & Nanotechnol, CH-5232 Villigen, Switzerland;
high-resolution X-ray diffraction; multiple quantum well structures; molecular beam epitaxy; Si/SiGe; QUANTUM-CASCADE STRUCTURES; SI0.5GE0.5 PSEUDOSUBSTRATE; INTERSUBBAND ABSORPTION; WELLS; ELECTROLUMINESCENCE; TRANSITION;
机译:固体源分子束外延生长的InAlAs / InAs_(x)P_(1-x)/ InP复合通道调制掺杂结构的电学性质
机译:固体源分子束外延生长的InAlAs / InAs_xP_(1-x)/ InP复合通道调制掺杂结构的电学性质
机译:固体源分子束外延生长的InAlAs / InAs_xP_1-x / InP复合通道调制掺杂结构的电学性质
机译:通过分子束外延在预构造Si 001衬底上生长的SiGe阶梯梯度缓冲层的结构表征
机译:分子束外延生长硅上砷化镓结构缺陷的研究。
机译:通过分子束外延生长在Si(111)衬底上的AlN纳米壁结构
机译:基于血浆辅助分子束外延在C-Al2O3上生长的血糖激光异质结构的细结构研究
机译:通过分子束外延生长的应变量子阱调制掺杂的InGasb / alGasb结构